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portada Advances in Research and Development: Modeling of Film Deposition for Microelectronic Applications: Vol. 23 (Thin Films)
Formato
Libro Físico
Editorial
Año
1997
Idioma
Inglés
N° páginas
311
Encuadernación
Tapa Dura
ISBN
0125330235
ISBN13
9780125330237
N° edición
1

Advances in Research and Development: Modeling of Film Deposition for Microelectronic Applications: Vol. 23 (Thin Films)

Maurice H. Francombe (Autor) · Academic Press · Tapa Dura

Advances in Research and Development: Modeling of Film Deposition for Microelectronic Applications: Vol. 23 (Thin Films) - Maurice H. Francombe

Sin Stock

Reseña del libro "Advances in Research and Development: Modeling of Film Deposition for Microelectronic Applications: Vol. 23 (Thin Films)"

Significant progress has occurred during the last few years in device technologies and these are surveyed in this new volume. Included are Si/(Si-Ge) heterojunctions for high-speed integrated circuits, Schottky-barrier arrays in Si and Si-Ge alloys for infrared imaging, III-V quantum-well detector structures operated in the heterodyne mode for high-data-rate communications, and III-V heterostructures and quantum-wells for infrared emissions.

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